等離子體清洗機不同激發頻率的特點？
文章導讀：等離子體的功率吸收主要由兩個粒子完成，一個是電子，一個是離子（主要是正離子）。
中頻放電過程中，中頻電源直接輸出到電極板的電壓高，產生的負自偏壓導致了無謂的正離子的功率吸收，也直接導致了電極板的溫升；正由於離子吸收了部分功率，用於電離的電子的功率吸收相應降低，這就引起了等離子體密度的低下。
射頻放電（容性耦合方式）過程中，電極板產生的自偏壓受到放電氣壓的影響，大致位於幾十V到幾百V的區間，電子的功率吸收主要來自於與電極板表麵的振蕩鞘層相互作用中獲得的。所以，射頻頻率越高（如40.68MHz），電子獲得的功率吸收相對較高，離子的轟擊能量就會降下來。
射頻放電（感應耦合方式）過程中，由於不涉及到電極，它是通過電磁感應的方式實現功率耦合的，電子從渦旋電場中獲得能量，而離子能量很低（小於10V），等離子體密度高，屬於無極放電的範疇。
微波放電有兩種方式，表麵波型和電子回旋共振型，商業用於清洗的一般都屬於表麵波型，其工作模式是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現放電，顯然，沒有離子的加速作用，因而其電子密度較高，但一般要求放電氣壓高。而放電氣壓高帶來的問題是等離子體局域化比較嚴重，縱深清洗比較差，也不利於多層麵的大尺度的清洗處理，另外，微波電磁場對電子元器件多多少少會有電磁輻射作用，有可能會造成電子元器件的擊穿損傷。
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