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    文章導讀:在半導體製程中,器件可能會沾染有機物、氧化層、粉塵、顆粒物等汙染物,所以需要對這些汙染物進行清洗,傳統的工藝時濕法清洗,通過化學溶劑進行處理,經過多年的發展,蜜桃视频网站观看免费网页得到了應用,設備利用高頻電場將氣體分子激發成等離子體,等離子體通過離子轟擊表麵產生的化學反應和物理效應,清洗汙染物。
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    1、高效:清洗效果快捷,短時間內能夠完成清洗工作;
    2、多功能:處理清洗表麵,還能夠提供表麵改性活化的效果;
    3、環保:幹法處理工藝,不會造成汙染,減少濕法工藝的溶劑處理的麻煩;
    4、經濟:設備使用成本低,使用壽命長,整體清洗成本非常實惠。
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      ‌高效徹底‌:能夠深入微納米級孔隙中,徹底清除難以觸及的汙染物。

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      ‌廣泛適用‌:適用於多種材料表麵,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產生負麵影響。

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