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    3.樣品台:用於支撐和加熱待處理的物體。
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    1. 清洗介質:根據清洗目的,選擇適當的清洗介質,如氧氣、氫氣、氮氣等。
    2. 清洗功率:根據處理樣品的大小和材質等要求,選擇不同功率的等離子體源。
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    4. 控製係統:根據實際需求,選擇適當的控製係統,如計算機控製或手動控製。
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