在線式等離子去膠機百科
文章導讀：在線式等離子去膠機通常也是在真空環境下，利用射頻或微波等產生高頻電磁場。使通入的反應氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發生化學反應，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發物質，再通過真空係統抽走。
在線式等離子去膠機是一種用於連續化去除光刻膠等有機物的設備，在半導體製造等領域有著重要應用。以下是其相關介紹：
工作原理
與普通等離子去膠機類似，在線式等離子去膠機通常也是在真空環境下，利用射頻或微波等產生高頻電磁場。使通入的反應氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發生化學反應，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發物質，再通過真空係統抽走。不同的是，在線式設備具有連續進料和出料的功能，可實現自動化的連續生產，提高生產效率。
結構組成
真空傳輸係統：包括真空腔室和傳輸裝置，傳輸裝置用於將待處理的晶圓或工件連續地送入和送出真空腔室，在傳輸過程中保持真空環境，確保等離子體去膠過程不受外界幹擾。
等離子體發生係統：由射頻或微波發生器、電極等組成，產生高頻電磁場，使反應氣體電離產生等離子體。
氣體供應係統：精確控製反應氣體的種類、流量和壓力，以滿足不同的去膠工藝需求。
控製係統：實現對整個去膠過程的自動化控製，包括工藝參數（如功率、時間、氣體流量等）的設定和監控，以及設備運行狀態的監測和故障報警等。
技術參數
處理速度：通常以每小時處理的晶圓數量或工件麵積來衡量，一般在幾十片到上百片晶圓每小時不等，具體取決於設備的型號和工藝要求。
去膠均勻性：要求在整個晶圓或工件表麵的去膠效果均勻一致，通常去膠均勻性可達到 ±5% 以內。
功率範圍：射頻或微波功率一般在幾十瓦到幾千瓦之間可調，以適應不同的去膠工藝和材料要求。
真空度：工作真空度通常在 10⁻¹ 到 10⁻³ 帕斯卡的範圍內，以保證等離子體的穩定產生和反應的順利進行。
產品特點
高效連續處理：能夠實現晶圓或工件的連續進料和出料，大大提高了去膠效率，適合大規模生產。
自動化程度高：通過控製係統實現對工藝參數的精確控製和設備的自動化運行，減少了人為因素的影響，提高了產品質量的穩定性和一致性。
兼容性好：可根據不同的工藝需求，靈活調整工藝參數，適用於多種類型的光刻膠和不同尺寸的晶圓或工件。
清潔環保：采用幹法去膠工藝，無需使用有害化學溶劑，減少了環境汙染和對操作人員的健康危害。
應用領域
半導體製造：在芯片製造的光刻工藝後，用於去除晶圓表麵的光刻膠，為後續的刻蝕、離子注入等工藝做準備。
平板顯示：例如在液晶顯示（LCD）和有機發光二極管（OLED）顯示麵板的製造中，去除光刻膠以形成像素電極、薄膜晶體管等結構。
太陽能電池：用於太陽能電池生產中的光刻膠去除，以及對矽片表麵進行預處理，提高電池的轉換效率和性能。
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與普通等離子去膠機類似，在線式等離子去膠機通常也是在真空環境下，利用射頻或微波等產生高頻電磁場。使通入的反應氣體（如氧氣、CF4 等）電離形成等離子體，等離子體中的活性粒子與光刻膠發生化學反應，將光刻膠分解為二氧化碳、水等易揮發物質，再通過真空係統抽走。不同的是，在線式設備具有連續進料和出料的功能，可實現自動化的連續生產，提高生產效率。
結構組成
真空傳輸係統：包括真空腔室和傳輸裝置，傳輸裝置用於將待處理的晶圓或工件連續地送入和送出真空腔室，在傳輸過程中保持真空環境，確保等離子體去膠過程不受外界幹擾。
等離子體發生係統：由射頻或微波發生器、電極等組成，產生高頻電磁場，使反應氣體電離產生等離子體。
氣體供應係統：精確控製反應氣體的種類、流量和壓力，以滿足不同的去膠工藝需求。
控製係統：實現對整個去膠過程的自動化控製，包括工藝參數（如功率、時間、氣體流量等）的設定和監控，以及設備運行狀態的監測和故障報警等。
處理速度：通常以每小時處理的晶圓數量或工件麵積來衡量，一般在幾十片到上百片晶圓每小時不等，具體取決於設備的型號和工藝要求。
去膠均勻性：要求在整個晶圓或工件表麵的去膠效果均勻一致，通常去膠均勻性可達到 ±5% 以內。
功率範圍：射頻或微波功率一般在幾十瓦到幾千瓦之間可調，以適應不同的去膠工藝和材料要求。
真空度：工作真空度通常在 10⁻¹ 到 10⁻³ 帕斯卡的範圍內，以保證等離子體的穩定產生和反應的順利進行。
產品特點
高效連續處理：能夠實現晶圓或工件的連續進料和出料，大大提高了去膠效率，適合大規模生產。
自動化程度高：通過控製係統實現對工藝參數的精確控製和設備的自動化運行，減少了人為因素的影響，提高了產品質量的穩定性和一致性。
兼容性好：可根據不同的工藝需求，靈活調整工藝參數，適用於多種類型的光刻膠和不同尺寸的晶圓或工件。
清潔環保：采用幹法去膠工藝，無需使用有害化學溶劑，減少了環境汙染和對操作人員的健康危害。
半導體製造：在芯片製造的光刻工藝後，用於去除晶圓表麵的光刻膠，為後續的刻蝕、離子注入等工藝做準備。
平板顯示：例如在液晶顯示（LCD）和有機發光二極管（OLED）顯示麵板的製造中，去除光刻膠以形成像素電極、薄膜晶體管等結構。
太陽能電池：用於太陽能電池生產中的光刻膠去除，以及對矽片表麵進行預處理，提高電池的轉換效率和性能。
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